专利掩护是指在专利权被授予后,未经专利权人的同意,不得对研发进行商业性制造、使用、许诺销售、销售大概进口,在专利权受到侵害后,专利权人通过协商、请求专利行政部分过问或诉讼的办法掩护专利权的行为。差异规模的专利掩护方法也差异。那么,应该怎样申请专利掩护呢?
1、研发专利申请流程:专利申请—受理—初审—发布—实质审查请求—实质审查—授权;
(1)请求书:包罗研发专利的名称、研发人或设计人的姓名、申请人的姓名和名称、地点等。
(2)说明书:包罗研发专利的名称、所属技术规模、配景技术、研发文章、附图说明和具体实施方法。
(3)权利要求书:说明研发的技术特征,清楚、简腹地表述请求掩护的文章。
(4)说明书附图:研发专利常有附图,如果仅用文字就足以清楚、完整地描述技术方案的,仅供没有附图。
2、实用新型专利申请流程:专利申请—受理—初审—通告—授权;
(1)请求书:包罗实用新型专利的名称、研发人或设计人的姓名、申请人的姓名和名称、地点等。
(2)说明书:包罗实用新型专利的名称、所属技术规模、配景技术、研发文章、附图说明和具体实施方法。说明书文章的撰写该当详尽,所述的技术文章应以所属技术规模的普通技术人员阅读后能予以实现为准。
(3)权利要求书:说明实用新型的技术特征,清楚、简腹地表述请求掩护的文章。
(4)说明书附图:实用新型专利必然要有附图说明。
(5)说明书摘要:清楚地反应研发要解决的技术问题,,解决该问题的技术方案的要点以及主要用途
3、外观专利的申请流程:专利申请—受理—初始审查—通告—授权;
外观专利需要提交的文件:
(1)请求书:包罗外观专利的名称、设计人的姓名、申请人的姓名、名称、地点等。外观设计图片或照片:至少两套图片或照片(前视图、后视图、俯视图、仰视图、左视图、右视图,如果须要照旧提供立体图);
(2)外观设计简要说明:须要时应提交外观设计简要说明。
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(文章编辑:厦门商标网)